该系统是一种台式真空系统,可将超纯非团聚纳米颗粒直接沉积到
直径达 50 毫米的任何表面上。专为共享研究或教学实验室而设计,
学生和研究人员可以在各种纳米技术项目中并行使用,而不必担心
交叉污染。应用包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。
主要特点
沉积无烃和非团聚的纳米颗粒
从亚单层到高孔隙率 3-D 纳米涂层
表面等离子体清洁和功能化
生成纯金属或化合物纳米颗粒,如氧化物和氮化物。
多种材料可供选择,包括 Ag、Au、Cu、Ni、Ir 和 Pt
使用石英晶体微量天平 (QCM) 进行实时沉积控制
可重复的工艺,典型循环时间为 30 分钟
室温沉积与石墨烯、膜和塑料等精密基材兼容
规格
重量:约 60 公斤(113 磅)
尺寸 :(长x宽x高)70 x 50 x 60 厘米(27.6x 19.7 x 23.6 英寸)
消耗品
目标大小 :直径 1 英寸(25.4 毫米),最大厚度 3 毫米
最大采样量: 直径 50 毫米
材料 :导电材料,包括 Ag、Au、Pt、Cu、Ni、Ti、Ir
控制软件
直观的用户界面易于使用,不需要任何真空经验。预装的沉积配方使用户能够立即开始沉积纳米颗粒。
突出
抽真空和沉积序列的完全自动化。
针对 Au、Ag 和 Pt 等常见材料的预加载优化沉积设置。
高级用户可以选择控制沉积条件,以根据他们的特定需求控制纳米颗粒的尺寸和沉积速率。
使用沉积重量或沉积时间控制纳米颗粒负载。
自动记录所有过程和真空参数。
联系人:张垚
手机:13916855175
电话:021-56035615
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