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纳米颗粒和薄膜的模块化PVD系统

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纳米颗粒和薄膜的模块化PVD系统

    纳米颗粒和薄膜的模块化PVD系统 是一种多功能的 PVD 系统,能够生成纳米颗粒和薄膜,非常适合工业和学术研究。NL-FLEX 能够容纳任何类型的基材,包括卷对卷、非平面和粉末涂料。服务于广泛的应用,包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。这种模块化 PVD 沉积系统可以与分析工具集成,为您的研究需求提供完全定制的解决方案。


主要特点

  • 通过结合纳米颗粒和薄膜生成复杂材料

  • 使用 NL-UHV 的无烃纳米颗粒

  • 宽敞且易于访问的腔室,非常适合精密和复杂的基材

  • 向上或向下的源配置

  • 与第三方来源兼容

  • 使用旋转、加热和偏置选项对 3D 对象进行涂层

  • 全自动和配方驱动的软件



基本系统配置

  • 沉积室的大小 : 450 x 450 x 450 毫米

  • 基础压力 : < 5e– 7托

  • 取向 : 溅射

  • 示例表 : 4 英寸晶圆,20rpm 旋转

  • 泵: 700 升/秒涡轮增压器,7.2 米3/hr 干式前级泵

  • 阀: 手动阀、百叶窗和线性驱动器

  • 控制软件 : 配方驱动过程、电源控制和数据记录

  • 原位监测 : 用于过程监控和终点检测的石英晶体微量天平

  • 源端口 : 多达 6 个沉积源

  • 源类型: 纳米粒子源、磁控溅射源、迷你电子束蒸发器、热舟源K 池、离子源、射频原子源



选项

  • 可拆卸的沉积屏蔽层

  • 朝上的源几何体

  • 样品台:

– 用于纳米粒子加速的直流偏压

– 用于样品表面清洁的射频偏置

– 加热至 800°C

  • 阀门、百叶窗和线性驱动器的自动化选项

  • 涡轮前方的可调节挡板,以增加动态压力范围,以便在较低气体流量下进行溅射

  • 带传输臂的单独泵送负载锁


控制软件

Spectrum Software Brochure

直观的“拖放”用户界面易于使用,并允许完全自动化的抽真空和沉积序列。

纳米颗粒和薄膜的模块化pvd1.png


特征:

全自动抽空和排气

⇒ 配置虚拟机架以适合您的流程
⇒ 易于添加和删除设备
⇒ 实时图表
⇒ 连锁监控
⇒ 配方控制
⇒ 数据记录功能