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纳米级离子注入系统

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纳米级离子注入系统

纳米级离子注入系统

    Q ONe


纳米级离子注入系统

Q-One型, 先进的纳米级离子注入平台

Q-One是一种具有纳米级精度的确定性单离子注入的最新工具。这是一种全新的设计,功能强大的FIB,能够以惊人的精度和前所未有的速度定位单个离子。

Q-One具有许多强大的功能,是制造量子器件和先进材料工程的最先进系统。

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快速、可扩展的设备制造

Q-OneSPM扫描探针显微镜)技术快许多数量级,它可以在短短几秒钟内产生数百万个精确定位的原子阵列。

 

纳米精度

Q-One具有20纳米聚焦离子束和1纳米光学编码器的压电驱动级,提供了最终的精确离子放置。

 

植入多种元素

液态金属离子源和质量过滤柱可选择和植入40多种不同元素。双等离子体源也可用于氧和氮掺杂。

 

 

双离子束

高分辨率电子柱可提供高达4nm的详细成像,用于现场验证和过程控制。

 

应用

单离子注入

量子器件制造与研究

纳米材料工程

光子系统

存储设备

 

成功案例

单离子多物种低能定位项目

作为单离子多物种低能定位项目的一部分, 2018年在英国 Surrey Ion Beam Centre安装了第一批两台同类仪器。

 

PLATFORM FOR NANOSCALE ADVANCED MATERIALS ENGINEERING

Q-One系统成为英国Henry Royce研究所,纳米先进材料工程新平台的核心。


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