语言选择: 中文版 ∷  英文版

紫外激光直写光刻机

  • 紫外激光直写光刻机
紫外激光直写光刻机

紫外激光直写光刻机

    • 产品描述:无掩膜光刻机 激光直写系统

这是一个高价值的直写激光光刻机系统,面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。

它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西,
从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型,集成相机可以用来调整现有的功能写。

我们对其进行了优化,以便于使用和简单维护,最大限度地利用现成的部件,而不牺牲书写
质量或功能。

直接激光书写光刻

直接激光光刻技术通过消除光掩模生产对外部供应商的依赖,大大降低了微流体、微电子、
微机械和材料科学研究等领域的成本和执行时间。

无掩模光刻技术可以随意进行纳米图案化,而不需要缓慢而昂贵的光掩模。这种便利性对于
研究和快速原型制作特别有用。台式机型,在性能上没有任何妥协,从而补充了现有的优势。

将紫外激光束聚焦到衍射受限的点上,并扫描该点以曝光光刻胶上的任意图案。为了曝光大

型晶圆,精密步进器会移动晶圆,并允许拼接多次曝光。能够在6英寸晶圆上产生小于(CD)
0.5μm的特征。

全新的Gen2 BEAM配件现在将成为所有系统的标准配置。期待高分辨率(<0.5 um)和高速
图案化,以及改进的缝合。

BEAM Gen2 Intro.bmp

Compact

全功能无掩模光刻,比台式电脑还小。


Powerful

亚微米分辨率,单层曝光时间仅需两秒钟


Ultrafast autofocus,
超快自动对焦

当与我们的闭环聚焦光学元件结合时,压电致动器在不到一秒钟的时间内到达焦点。


No-fuss multilayer, 多层书写

半自动对齐允许在几分钟内完成多层对齐。

附带的软件可以快速完成任何图案制作工作;只需加载、对齐和曝光即可。导航类似于CNC系统。

在多层曝光过程中,GDS图案被叠加以进行可视化。控制GUI(左窗口)有一个加载的GDS的小地图,
可以一键导航到晶圆上的任何区域。

技术指标

图案结构

倍率

50

20

10

5

最小线宽

0.5

0.8

1.5

3

曝光速度

3

15

60

200

曝光波长

405(标准),365385(可选)

灰度

256灰阶

样品台

型号

标准版

XL

样品台重复度

0.1um

自动对焦

压电驱动;快速精确(20nm)聚焦与大多数透明基板兼容

衬底对准

上部对准

上部对准和下部对准

最大直写区域

106*106

150*150

最大样品尺寸

130*1305英寸兼容)

155*1556英寸兼容)

设备重量

20

27

设备尺寸

330*310*340

342*385*338

软件

多种文件格式

Bmp,png,tiff,dxf,gds多种图案可在软件钟绘制

图案样式

Beam Xplorer

制图

KLayout(最有力),AutoCAD

2222222222222222.PNG
111111111.PNG
BEAM Gen2 Intro222.bmp