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光刻系统

  • MDA-400M光刻机
MDA-400M光刻机

MDA-400M光刻机

MDA-400M光刻机
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;
MIDAS为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

产地:韩国MIDAS公司,唯一能做到图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻机,高性价比
型号:MDA-400M
厂家链接:http://www.midas-china.com.cn/


MDA-400M

易于操作和安装,处理各种尺寸的基板,带触摸屏面板的PLC控制

•全手动类型

•掩模版尺寸达5英寸

•基板尺寸为4英寸圆形

•均匀光束尺寸4.25*4.25英寸

•光源:紫外线灯,350 W

•光束波长350~450 nm

•光束均匀性<±3%

•365 nm强度 ~25 mW/

•手动对准

•对准精度1 um

•操作模式:软、硬、真空接触和接近

•工艺分辨率 1 um@1 um PR厚度,带真空触点

•尺寸(mm)1080(宽)*1060(深)*1580(高)